留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

热处理对ZnO/Au薄膜结构和压电特性的影响

杨杰 陈光焱 王旭光 沈朝阳 姚明秋

杨杰, 陈光焱, 王旭光, 等. 热处理对ZnO/Au薄膜结构和压电特性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 024133. doi: 10.11884/HPLPB201527.024133
引用本文: 杨杰, 陈光焱, 王旭光, 等. 热处理对ZnO/Au薄膜结构和压电特性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 024133. doi: 10.11884/HPLPB201527.024133
Yang Jie, Chen Guangyan, Wang Xuguang, et al. Effect of post-annealing on the structure and piezoelectric properties of ZnO/Au films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 024133. doi: 10.11884/HPLPB201527.024133
Citation: Yang Jie, Chen Guangyan, Wang Xuguang, et al. Effect of post-annealing on the structure and piezoelectric properties of ZnO/Au films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 024133. doi: 10.11884/HPLPB201527.024133

热处理对ZnO/Au薄膜结构和压电特性的影响

doi: 10.11884/HPLPB201527.024133
详细信息
    通讯作者:

    杨杰

Effect of post-annealing on the structure and piezoelectric properties of ZnO/Au films

  • 摘要: 通过射频磁控溅射在氧化硅片表面沉积ZnO/Au薄膜,并通过不同的热处理方式对薄膜进行退火。为了研究退火对ZnO/Au薄膜结构和压电特性的影响,采用X射线衍射分析(XRD)、光学显微镜、场发射扫面电镜(FESEM)和压电力分析仪对薄膜退火前后的材料特性进行了分析。研究发现,热处理能够改善ZnO/Au薄膜的结晶质量。特别是在氮气保护氛围下慢速退火后,薄膜结晶质量有明显改善。但是,热处理导致了薄膜的压电系数d33和d31降低。分析认为,热处理过程中Au原子在ZnO中的易迁移特性破坏了ZnO/Au薄膜的压电性能。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  1035
  • HTML全文浏览量:  230
  • PDF下载量:  236
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2014-09-19
  • 修回日期:  2014-11-02
  • 刊出日期:  2015-01-27

目录

    /

    返回文章
    返回