High-precision measurement technique of isoplanatic angle
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摘要: 等晕角是重要大气光学参数之一，对天文光学站址选择、大气湍流效应自适应光学校正效果评价等有着重要的意义。分析了国内外等晕角测量技术，介绍了等晕角测量的基本原理，设计了三环变迹镜并开展了数值验证，分析并提出了高精度等晕角测量仪的主要技术指标，研制了一套高精度等晕角测量仪，结果表明，该仪器能够满足全天时的等晕角测量。Abstract: Isoplanatic angle is an important parameter in atmospheric optics field, and it is important for astronomical site optics selection, and evaluation of adaptive compensation for effects of atmospheric turbulence. Past measurement techniques of isoplanatic angle in the world is analyzed, and fundamental measurement principle of isoplanatic angle is introduced. A three annuli mirror was designed and its usability and precision has been verified. Primary specifications was put forward and a prototype has been developed for high precision measurement of isoplanatic angles. The results show that the prototype an measure isoplanatic angle day and night.
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光学晶体加工中工艺参数的选择会直接影响工件表面质量和使用性能。如惯性约束聚变过程中对光学元件可靠性要求极为严格[1]。晶体的高硬脆性及强各向异性等一系列不利因素使加工高质量表面变得困难[2-4]。目前，对晶体材料精密加工而言，单点金刚石超精加工[5-6]相比于磁流变光整加工[7-9]和磨料切割工艺[10]两种常用加工方式，能有效缩短加工周期，表面一致性较好。其过程参数如切削用量、主轴振动、导轨误差、刀具形状、刀具磨损以及切削力的波动将直接影响表面质量。已加工表面微观形貌可看作是加工过程中各参数综合作用的集合，切削用量对微观形貌影响最为明显[11]。本文根据切削用量影响晶体表面微观形貌的频率特征进行分析，获得了切削参数（进给量、切削深度和主轴转速）与实际频率特征关系。
表面形貌极大程度影响着材料使用功能，而切削用量是影响表面形貌的主要因素。国内外学者已开展机加工过程中切削用量对晶体表面质量及其功能基础性研究。Chen N用自行研制的微型PCD球头铣刀对KDP材料进行加工，获得铣削过程中最优参数并验证了微型PCD球头铣刀对表面微缺陷具有修复能力[12-13]。Zheng W研究SiCp/AI复合材料磨削过程中工艺参数对表面形貌影响，综合分析了进给量、主轴转速、主轴振动及切削深度对表面粗糙度不同影响程度[14]。Wang S对KDP晶体材料进行切削实验，获得进给量对KDP单晶表面质量和切削力的关系并分析了材料韧脆性变化[15]。Tian F发现金刚石刀具车削过程中工件振动对表面形貌有很大影响，建立振动对加工表面影响的理论模型并分析工件和刀具在切削方向上的振动关系[16]。Wang X考虑到加工参数及振动对研磨材料的影响并建立研磨运动模型，发现了磨削表面形貌主要受研磨过程中研磨速度影响[17]。Krolczyk G M对表面形貌参数进行差异化描述，包括表面振幅和粗糙度等参数进行评估[18]。Zhang Q用AISI H13钢球头刀具进行铣削实验，分析了进给量和切削深度对已加工表面形貌的影响关系[19]。Wei W研究了加工参数在高速铣削过程中对铣削力的影响规律[20-21]。但上述研究均未考虑表面形貌是实际频率特征无序叠加的组合体，对微观形貌分析仍停留在表面轮廓纹理分布上。为获得加工过程中切削用量对微观形貌影响规律，本文进行单点金刚石车削KDP单晶实验。PSD结合连续小波方法，进行已加工表面轮廓频率特征的提取，研究切削参数对频率特征的影响。
1. 方法与实验
1.1 PSD计算方法
功率谱密度（PSD）通常用来分析输入信号的空间频率信息。PSD不仅包含表面垂直方向的高度信息，同时包含重要的横向空间频率分布[22]。表面微观轮廓频率信息由计算一维PSD得到。PSD定义式为
PSD1(f)=limL→∞|z(f,L)|2L (1) 式中：L是采样长度，f是空间频率，z（f，L）是表面微观轮廓傅里叶变换的结果。z（f，L）的计算公式为
z(f,L)=∫L/2−L/2z(x)exp(−j2πfx)dx (2) 式中：z（x）是微观轮廓高度信息。
1.2 连续小波提取方法
空间域中，小波变换（WT）定义为分析原始信号f（x）的一系列函数，即小波基函数ψ（x）。ψa，b（x）是小波基ψ（x）根据尺度因子a和平移因子b构成的一组函数。连续小波变换（CWT）是对空间频率进行多尺度变换[23]，能有效地从微观形貌中提取实际频率特征。CWT定义式为
ψa,b(x)=|a|−1/2ψ(x−ba) (3) Wψ(f)(a,b)=1√a∫∞−∞f(t)ψ(t−ba)dt (4) 式中：Wψ是连续小波系数，由ψ（x）（本文取Mexican小波基）、尺度因子a、平移因子b（本文中b＝0）共同决定。
尺度因子a为轮廓频率特征信息与小波基中心频率的变换关系。频率特征与a对应关系为
a=fcfsΔ (5) 式中：fc是Mexican小波基中心频率（fc＝0.25）；Δ是白光干涉仪采样周期；fs是实际频率特征的中心频率。其中fs可表示为
fs=fLN/2 (6) 式中：f是PSD提取表面轮廓的实际频率，N是采样长度上采样点数目。
式（4）的小波系数Wψ表示原信号与小波基相似程度，与轮廓频率特征无关。需对小波系数逆变换，定义式为
f(t)=1Cψ∫a∫b[Wψ(f)(a,b)]ψa,b(t)dbdaa2 (7) 式中：f（t）是小波系数重构的实际频率特征；Cψ是小波容许常数。
1.3 表面轮廓均方根表征
微观形貌处于nm量级时，仍能用描述表面微观轮廓大小的传统统计参数，如轮廓均方根Rq表征轮廓垂直方向的高度信息，可表示为
Rq=√∫L0[z(x)]2dxL (8) 式中：z（x）为轮廓高度。
1.4 实验
本文中KDP单晶表面（001）由单点金刚石车削获得。刀具参数见表1，切削方式为端面车削，选取切削参数见表2。
表 1 圆弧刃天然单晶金刚石车刀参数Table 1. Parameters of diamond turning toolnose radius r/mm edge radius rn/nm rake angle γ0/(°) clearance angle α0/(°) 3.2 150 0 9 表 2 切削参数及其轮廓均方根比较Table 2. Cutting parameters and RMS of contourNo.（group） spindle speed n/(r/min) feed rate f /(μm/r) depth of cut ap/μm RMS of contour Rq/nm 1 400 10 3 17 6 35 9 37 2 300 8 3 15 12 24 18 27 3 500 10 5 25 400 24 300 26 采样样本通过白光干涉仪测量获得，采样面积360 μm×360 μm;采样点数256×256；最小采样周期1.412 μm/pixel（360 μm/255 pixels），如图1～3所示。根据采样大小确定公式（5），（6）中参数取值Δ＝1.412，L＝360 μm，N＝256。图1（a）左为例，能看到相对运动的走刀痕迹。轮廓纹理需提取垂直走刀方向上高度信息，如图1（a）右所示，轮廓均方根Rq见表2。
图 1 白光干涉仪测量的变切削深度时晶体表面和轮廓Figure 1. Crystal surface and contour at different cutting depth measured by a white light interferometer
图 2 白光干涉仪测量的变进给量时晶体表面和轮廓Figure 2. Crystal surface and contour at different feed rate measured by a white light interferometer
图 3 白光干涉仪测量的主轴转速改变时晶体表面和轮廓Figure 3. Crystal surface and contour at different spindle speed measured by a white light interferometer2. 分析
2.1 PSD分析
通过PSD计算获得取样域内频率值及其功率量。根据白光干涉仪测量参数，确定取样周期范围2.824～360 μm，频率取值范围0.002 8～0.354 μm−1，最小频率间隔为0.002 8 μm−1。因频率取值为最小间隔的整数倍，只得到取值范围内的固定频率及其功率量。为弥补轮廓上部分频率信息遗漏，连续小波变换时需对频率段进行提取及重构。式（1），（2）计算表面微观轮廓的功率谱密度大小，如图4～6所示。
图4在转速n＝400 r/min，进给量f＝10 μm/r，切削深度ap分别为3、6、9 μm时PSD计算结果。可以看出，切削深度变化时，PSD值在频率0.011 2 μm−1处最大，说明该值是影响表面微观轮廓的主要频率，且随切深变大，功率量也相应增加。频率为0.005 6、0.027 7 μm−1存有少量功率量，是影响表面轮廓的次要频率。
图5在转速n＝300 r/min，切深ap＝3 μm，进给量f分别为8、12、18 μm/r时PSD计算结果。可以看到，变进给量时主频值发生变化，进给量f为8、12 μm/r时主频率为0.008 4 μm−1，f为18 μm/r时主频率为0.005 6 μm−1。这是因为轮廓细密程度随进给量减少变得细密，采样范围内纹理增多，反应在PSD上为主频值右移。图5（a），（b）也可看出，进给量减小时中频特征（0.011 2、0.013 8 μm−1）有向低频过渡的趋势，低频成为进给量变化时主要频率，其重构波形对表面轮廓影响程度慢慢变小。
图6在切削深度ap＝5 μm，进给量f ＝10 μm/r，主轴转速n分别为500、400、300 r/min时PSD计算结果。频率0.011 2 μm−1是转速变化时影响微观轮廓的主要频率。图6（a），（b），（c）具有相同的频率分布，表明转速不会影响频率值变化，只影响功率量大小。说明这三个轮廓拥有近似频率特征，其重构波形有相似性。
2.2 频率特征提取及重构
超精加工表面形貌可看作是多尺度波纹无序叠加组成。图4～6选取较为明显的频率值进行频率特征提取及重构。为保证分析过程及结果准确一致，变切削深度和变转速条件下选择低、中、高频率值分别为0.005 6，0.011 2，0.027 7 μm−1；变进给量情况下提取及重构频率值分别为0.005 6，0.008 4，0.011 2，0.013 8，0.027 7 μm−1。式（5），（6）中小波参数及尺度计算结果见表3。
表 3 尺度因子及其计算过程参数Table 3. Scale a and its parameters of calculationsfrequency f/μm−1 size L/μm number N waviness central frequency fs mexihat central frequency fc sampling period Δ scale a low 0.005 6 360 256 0.015 8 0.25 1.412 11.209 3 0.008 4 0.023 7 7.472 9 mid 0.011 2 0.031 2 5.674 8 0.013 8 0.038 8 4.563 2 high 0.027 7 0.077 9 2.272 8 式（3），（4）得到的小波系数与表面轮廓并无实质联系。为获得轮廓频率特征信息需对小波系数逆变换，由式（7）重构微观轮廓频率特征。
2.3 切削参数对频率特征的影响
切削参数对微观轮廓影响主要体现在频率特征的波长及幅值上。图7为变切削深度时轮廓与实际频率特征进行比较。频率为0.011 2 μm−1重构的波形与原始轮廓最为接近，频率值为0.005 6、0.027 7 μm−1含有少量轮廓信息，与PSD分析结果一致。由图7的原始轮廓比较发现：其周期及振幅随切削深度改变而变化，具体表现为切削越深，轮廓周期明显，幅值变大。这与重构中频0.011 2 μm−1的波形特征保持一致。切削深度对高、低频轮廓影响较小，在幅值和波长上无明显变化。均方根Rq分别为17，35，37 nm，得到ap＝ 3 μm是本文中较为合适的切削深度。
图 7 变切削深度时原始轮廓与实际频率特征比较Figure 7. Comparison of surface profile and actual frequency characteristics at different depth of cut图8为变进给量时轮廓与实际频率特征进行比较。低频特征（0.008 4、0.005 6 μm−1）的大小及走势与原始轮廓最为接近，视为主频率。对比低频特征发现，在进给量增加时，频率值变小，其特征表现为波长变长，幅值增加，即进给量变化会影响主频率值变化，随进给量增大趋向低频，振幅变大。进给量变化对中、高频无规律变化。均方根Rq分别为15、24、7 nm，得到f＝8 μm/r是本文较为适宜的进给量。
图 8 变进给量时原始轮廓与实际频率特征比较Figure 8. Comparison of surface profile and actual frequency characteristics at different feed rate图9为变转速时原始轮廓与实际频率特征进行比较。在变转速情况下，中频特征（0.011 2 μm−1）与原始轮廓走势一致。高频特征（0.027 7 μm−1）反映了轮廓的细节变化，与加工过程中的振动和材料自身性质有关。转速变化对高、低频无明显影响。均方根Rq分别为25，24，26 nm，得到n＝400 r/min是本文的理想转速。
图 9 变主轴转速时原始轮廓与实际频率特征比较Figure 9. Comparison of surface profile and actual frequency characteristics at different spindle speed3. 结 论
通过分析切削参数变化对KDP晶体已加工表面实际频率特征的影响，可得到以下结论：（1）功率谱密度结合连续小波的方法能够获得采样域内的频率特征，将表面微观轮廓信息按实际频率进行提取及重构。获得影响微观形貌的主频率，建立加工参数与实际频率特征的关系；（2）切削参数对表面微观形貌的影响归结于实际频率特征上。中频特征反映了切深与主轴转速信息；进给量变化会影响低频值发生改变，频率特征随进给量增加时表现为波长变大、幅值增加。通过实际频率特征分析对评价加工工艺和光学晶体表面质量有着重要指导意义；（3）PSD仅能获得取样长度范围内取样步长整数倍的频率，但表面形貌上空间频率是连续分布的。通过连续小波重构可以在某种程度上弥补PSD方法在分析频率特征连续性的不足，提取出微观轮廓上的实际频率特征。
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图 2 W（z）的计算值及其拟合曲线比较
Figure 2. Calculated value of W(z) compared with its fitting curve
图 3 三种变迹镜加权函数与W（z）=cz5/3的一致性对比
Figure 3. Weighting function of three kinds of apodizing masks compared with W(z)=cz5/3
图 4 三种变迹镜的等晕角相对误差对比
Figure 4. Comparison of relative error of three kinds of apodizing masks
图 6 高精度等晕角测量仪组成及布局
Figure 6. Composition and layout of high-precision measurement technique of isoplanatic angle
表 1 变迹镜结构尺寸
Table 1. Size of tri-annuli apodizing mask
type of apodizing mask radius /mm center block 35.560 telescope 101.60 inside/outside radius of inner transmittance ring 37.3888/43.8404 inside/outside radius of middle transmittance ring 62.8904/69.2404 inside/outside radius of outer transmittance ring 81.9404/101.6000 
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表 2 变迹镜结构尺寸
Table 2. The size of apodizing mask
design procedures of
apodizing maskfit coefficient c of
weighting functiontransmittance area A
of the ring /m2inside/outside radius of middle
transmittance ring/mmsingle aperture 1.209×10−16 0.0095 radius 55.00 dual ring 1.551×10−16 0.0205 inside/outside radius of inner transmittance ring 37.50/50.00 inside/outside radius of outer transmittance ring 70.00/101.6
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表 3 高精度等晕角测量仪的主要技术指标
Table 3. Key specifications of the high-precision isoplanometer
key specifications design value dynamic range 3～30 μrad（λ=500 nm） wave length 600～1000 nm sample frequency ≥300 Hz single sample size ≥600 sampling precision 12 bit variation range of zenith angle 5°～45° variation range of azimuth 0°～360°
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