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短脉冲激励的混响室设计

李爽 王建国

李爽, 王建国, , 等. 短脉冲激励的混响室设计[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1439-1444. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1439
引用本文: 李爽, 王建国, , 等. 短脉冲激励的混响室设计[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1439-1444. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1439
Li Shuang, Wang Jianguo, et al. Design of reverberation chamber excited by short pulse[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1439-1444. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1439
Citation: Li Shuang, Wang Jianguo, et al. Design of reverberation chamber excited by short pulse[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1439-1444. doi: 10.3788/HPLPB20122406.1439

短脉冲激励的混响室设计

doi: 10.3788/HPLPB20122406.1439
详细信息
    通讯作者:

    李爽

Design of reverberation chamber excited by short pulse

  • 摘要: 根据理想封闭矩形腔体内电磁场表达式,分析了对混响室内场特性有影响的因素;结合混响室的参数要求,对混响室模型的设计进行了研究,并确立了适用于短脉冲激励下的混响室的场均匀性分析指标;通过对比电场分布的均匀性,重点研究腔体形状和源搅拌方法对腔体内场分布的影响,采用连续10次移动激励源的方法可以将场分布标准差降低约0.4 dB。数值模拟结果表明:采用类似复杂腔的结构,在矩形腔的基础上引入若干复杂结构,可以有效地提高场分布的均匀性,有利于在腔内构造均匀的电磁环境;证明了连续移动激励源位置这一源搅拌方法的可行性,通过该方法可以有效地提高场分布的均匀性。
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出版历程
  • 收稿日期:  2011-11-23
  • 修回日期:  2012-01-10
  • 刊出日期:  2012-06-15

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