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微腔等离子体放电过程的数值研究

夏广庆 王冬雪 薛伟华 朱国强 朱雨

夏广庆, 王冬雪, 薛伟华, 等. 微腔等离子体放电过程的数值研究[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1907-1913. doi: 10.3788/HPLPB20122408.1907
引用本文: 夏广庆, 王冬雪, 薛伟华, 等. 微腔等离子体放电过程的数值研究[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1907-1913. doi: 10.3788/HPLPB20122408.1907
Xia Guangqing, Wang DongXue, Xue Weihua, et al. Numerical study on discharge process of microcavity plasma[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1907-1913. doi: 10.3788/HPLPB20122408.1907
Citation: Xia Guangqing, Wang DongXue, Xue Weihua, et al. Numerical study on discharge process of microcavity plasma[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1907-1913. doi: 10.3788/HPLPB20122408.1907

微腔等离子体放电过程的数值研究

doi: 10.3788/HPLPB20122408.1907
详细信息
    通讯作者:

    夏广庆

Numerical study on discharge process of microcavity plasma

  • 摘要: 采用2维自洽完全流体模型,数值研究了阳极为通孔的高气压微腔放电结构中等离子体参数的变化过程。模拟结果获得了当氩气压强为13.3 kPa时,放电中的电势分布、等离子体密度分布、径向电场分布和电子温度分布等重要参数的演化过程。模拟结果表明在放电过程中,阴极附近的电场由轴向电场逐步转变为径向电场,等离子体密度最大值位于放电腔中间处,并随时间推移由阳极附近向阴极附近移动,电子温度的最大值出现在阴极环形鞘层区域。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-02-23
  • 刊出日期:  2012-08-15

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