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清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响

叶晓雯 王孝东 程鑫彬 马彬 丁涛 沈正祥 王占山

叶晓雯, 王孝东, 程鑫彬, 等. 清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 2338-2342. doi: 10.3788/HPLPB20122410.2338
引用本文: 叶晓雯, 王孝东, 程鑫彬, 等. 清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 2338-2342. doi: 10.3788/HPLPB20122410.2338
Ye Xiaowen, Wang Xiaodong, Cheng Xinbin, et al. Influence of substrate cleaning on laser-induced damage threshold of polarizers[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 2338-2342. doi: 10.3788/HPLPB20122410.2338
Citation: Ye Xiaowen, Wang Xiaodong, Cheng Xinbin, et al. Influence of substrate cleaning on laser-induced damage threshold of polarizers[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 2338-2342. doi: 10.3788/HPLPB20122410.2338

清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响

doi: 10.3788/HPLPB20122410.2338
详细信息
    通讯作者:

    程鑫彬

Influence of substrate cleaning on laser-induced damage threshold of polarizers

  • 摘要: 采用微分干涉显微镜、扫描电镜和聚焦离子束观察了偏振分光膜损伤的形貌,从损伤机理出发,研究了清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响。结果表明:清洗能有效去除表面杂质,清洗质量越好,基板上的杂质尺寸越小,杂质密度也越小,相应的偏振分光膜S光的损伤阈值越高;清洗能有效去除基板表面的纳米吸收中心,吸收性杂质分布密度越小,吸收峰越低,P光的损伤阈值越高。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-02-25
  • 修回日期:  2012-07-12
  • 刊出日期:  2012-10-15

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