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光学元件精密加工中的磁流变抛光技术工艺参数

秦北志 杨李茗 朱日宏 侯晶 袁志刚 郑楠 唐才学

王玥, 陈再高, 王建国. 用于三维全电磁粒子模拟的电荷守恒共形发射技术[J]. 强激光与粒子束, 2016, 28: 033020. doi: 10.11884/HPLPB201628.033020
引用本文: 秦北志, 杨李茗, 等. 光学元件精密加工中的磁流变抛光技术工艺参数[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 2281-2286. doi: 10.3788/HPLPB20132509.2281
Wang Yue, Chen Zaigao, Wang Jianguo. Charge conserving emission technique for three-dimensional conformal particle-in-cell simulations[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2016, 28: 033020. doi: 10.11884/HPLPB201628.033020
Citation: Qin Beizhi, Yang Liming, Zhu Rihong, et al. Polishing parameters of magnetorheological finishing for high precision optical components[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 2281-2286. doi: 10.3788/HPLPB20132509.2281

光学元件精密加工中的磁流变抛光技术工艺参数

doi: 10.3788/HPLPB20132509.2281
详细信息
    通讯作者:

    杨李茗

    杨李茗

Polishing parameters of magnetorheological finishing for high precision optical components

  • 摘要: 为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对抛光结果的影响规律,以期提高元件的面形精度和表面的质量,在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基础上,结合实验室的PKC100-P1型抛光设备,对上述的关键工艺参数分别进行了研究,设置了一系列的实验参数,进行了详细的实验探索,分析了单因素条件下材料的去除量以及元件表面质量同关键工艺参数的内在联系,得出了相应影响关系曲线。从关系曲线表明:工艺参数对抛光斑的去除效率以及被加工元件表面质量存在着明显的影响规律,掌握这些影响关系就能用于分析和优化磁流变加工的结果,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障,同时实验的结果也很好地验证了磁流变抛光材料去除理论的正确性。
  • 期刊类型引用(2)

    1. 何泳成,吴煊,张玉亮,朱鹏,薛康佳,王林,李明涛,傅世年. BNCT02加速器机器保护系统设计. 强激光与粒子束. 2025(01): 74-80 . 本站查看
    2. 唐旭辉,何俊,岳军会,魏书军,杜垚垚,麻惠洲,刘智,杨静,高国栋,曹建社,王安鑫,随艳峰,叶强. 束流位置探测器自动标定系统研制. 核技术. 2022(02): 12-19 . 百度学术

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出版历程
  • 收稿日期:  2012-12-14
  • 修回日期:  2013-03-25
  • 刊出日期:  2013-07-17

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