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一种高功率微波源真空保持研究

赵雪龙 荀涛 刘列

赵雪龙, 荀涛, 刘列. 一种高功率微波源真空保持研究[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 2329-2333. doi: 10.3788/HPLPB20132509.2329
引用本文: 赵雪龙, 荀涛, 刘列. 一种高功率微波源真空保持研究[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 2329-2333. doi: 10.3788/HPLPB20132509.2329
Zhao Xuelong, Xun Tao, Liu Lie. Vacuum holding research for a high power microwave source[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 2329-2333. doi: 10.3788/HPLPB20132509.2329
Citation: Zhao Xuelong, Xun Tao, Liu Lie. Vacuum holding research for a high power microwave source[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 2329-2333. doi: 10.3788/HPLPB20132509.2329

一种高功率微波源真空保持研究

doi: 10.3788/HPLPB20132509.2329
详细信息
    通讯作者:

    赵雪龙

Vacuum holding research for a high power microwave source

  • 摘要: 针对一种陶瓷真空界面、天鹅绒阴极和不锈钢外壳的无氧铜压封高功率微波管,利用真空设计软件VacTran建立了系统抽气模型,模拟了真空室主要材料放气率和抽气曲线;通过吸气剂简单吸气模型,对保真空过程中吸气剂的吸气行为进行了模拟。实验对比了高功率微波管真空室在常温和烘烤状态下抽真空至10-4 Pa量级所需的时间。在真空度满足要求后,采用非蒸散型吸气剂(NEG)作为吸气泵进行保真空实验,静态下保真空超过30 d后,真空度仍维持在210-4 Pa。在此基础上,对保真空状态下的高功率微波管进行加速寿命实验:温度为80 ℃,累计时间超过140 h,真空度仍好于110-2 Pa,据此估计高功率微波管在常温下保持真空度高于110-2 Pa的时间超过1年。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-11-06
  • 修回日期:  2013-04-16
  • 刊出日期:  2013-07-17

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