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CF4/Ar/O2等离子体对熔石英元件的修饰工艺

邵勇 孙来喜 吴卫东 孙卫国

邵勇, 孙来喜, 吴卫东, 等. CF4/Ar/O2等离子体对熔石英元件的修饰工艺[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 032002. doi: 10.3788/HPLPB201426.032002
引用本文: 邵勇, 孙来喜, 吴卫东, 等. CF4/Ar/O2等离子体对熔石英元件的修饰工艺[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 032002. doi: 10.3788/HPLPB201426.032002
Shao Yong, Sun Laixi, Wu Weidong, et al. Using CF4/Ar/O2 plasma to modify surface of fused quartz components[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 032002. doi: 10.3788/HPLPB201426.032002
Citation: Shao Yong, Sun Laixi, Wu Weidong, et al. Using CF4/Ar/O2 plasma to modify surface of fused quartz components[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 032002. doi: 10.3788/HPLPB201426.032002

CF4/Ar/O2等离子体对熔石英元件的修饰工艺

doi: 10.3788/HPLPB201426.032002
详细信息
    通讯作者:

    邵勇

Using CF4/Ar/O2 plasma to modify surface of fused quartz components

  • 摘要: 采用感应耦合等离子体刻蚀技术,以CF4/Ar/O2为反应气体对熔石英元件表面进行修饰,研究并分析了CF4和Ar流量对刻蚀速率、熔石英表面粗糙度和微观形貌的影响。结果表明,CF4化学刻蚀与Ar的物理轰击对熔石英样品表面修饰效果存在一定竞争关系,当它们达到平衡时表面粗糙度最小。通过对不同流量气体刻蚀过后熔石英表面粗糙度和光学显微形貌分析获得了较为理想的气流量配比,该研究为反应等离子体修饰熔石英光学元件以获得较高光学性能提供工艺参考。
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-06-03
  • 修回日期:  2013-10-08
  • 刊出日期:  2014-03-07

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