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强流脉冲电子束轰击下回喷靶材速度测量与数值模拟

朱隽 章林文 龙继东 李劲 禹海军 尚长水 李剑

朱隽, 章林文, 龙继东, 等. 强流脉冲电子束轰击下回喷靶材速度测量与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(04).
引用本文: 朱隽, 章林文, 龙继东, 等. 强流脉冲电子束轰击下回喷靶材速度测量与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(04).
zhu jun, zhang lin-wen, long ji-dong, et al. Measurement and simulation of the back-ejecta of tantalum target material impacted by high intensity current pulse electron beam[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.
Citation: zhu jun, zhang lin-wen, long ji-dong, et al. Measurement and simulation of the back-ejecta of tantalum target material impacted by high intensity current pulse electron beam[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.

强流脉冲电子束轰击下回喷靶材速度测量与数值模拟

Measurement and simulation of the back-ejecta of tantalum target material impacted by high intensity current pulse electron beam

  • 摘要: 叙述了用高速摄影技术研究强流脉冲电子束与钽金属靶相互作用后靶材的回喷现象,得出了靶材回喷的速度。并且采用EGS4程序和Euler流体力学方程组分别模拟了电子束在靶内的能量沉积和束靶相互作用的动力学过程。实验表明,钽金属靶在强流脉冲电子束轰击下,回喷靶材的轴向速度大于2.9 mm/μs,而模拟结果表明理想情况下回喷靶材自由面的轴向速度可达9.7 mm/μs。实验和理论计算为阻挡回喷靶材的快门设计提供了必要的参数。
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  • 刊出日期:  2005-04-15

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