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光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版

张新宇,  汤庆乐,  张智,  易新建,  裴先登

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文章导航 > 强激光与粒子束  > 2002 >  14(01): 0-
张新宇, 汤庆乐, 张智, 等. 光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版[J]. 强激光与粒子束, 2002, 14(01).
引用本文: 张新宇, 汤庆乐, 张智, 等. 光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版[J]. 强激光与粒子束, 2002, 14(01).
shu
zhang xin-yu, tang qing-le, zhang zhi, et al. DNA microarray plate in quartz glass substrate fabricated by ion beam etching[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2002, 14.
Citation: zhang xin-yu, tang qing-le, zhang zhi, et al. DNA microarray plate in quartz glass substrate fabricated by ion beam etching[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2002, 14.
shu

光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版

  • 1.

    华中科技大学 计算机学院外存储系统国家专业实验室, 湖北 武汉 430074;

  • 2.

    中国船舶重工集团 华中光电技术研究所, 湖北 武汉 430074;

  • 3.

    华中科技大学 光电子工程系,湖北 武汉 430074

DNA microarray plate in quartz glass substrate fabricated by ion beam etching

  • 1.

    College of Computer Science and Technology,National Laboratory of Storage System,Huazhong University of Science and Technology,Wuhan 430074,China;

  • 2.

    Huazhong Research Institute of Electro-optical Technology,China State Shi pbuilding Company,Wuhan 430074,China;

  • 3.

    Department of Optoelectronic Engineering,Huazhong University of Science & Technology,Wuhan 430074,China

    摘要
  • 摘要: 采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英DNA芯片模版，利用扫描电子显微镜（SEM）和表面轮廓仪测试了所制石英DNA芯片模版的表面微结构形貌特征，分析了所制石英DNA芯片模版出现图形畸变的原因。所用工艺为在其它衬底材料表面制作更大规模及具有复杂结构的大面阵DNA芯片模版奠定了基础。
    Abstract: The DNA microarray plates in quartz glass substrates are fabricated using a multiple-process, including photolithography, heat treatment, and ion beam etching. Both the scanning electron microscope and surface style measurement are carried out to determine the dimension and the surface morphology of the devices. The reason of the shape distortion of DNA microarray plate in quartz glass substrate is analyzed. The coupling method of the quartz glass plate and the DNA sample is discussed. The techniques utilized can be applied to fabricate the DNA microarray plate of larger.
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  • 刊出日期:  2002-02-15

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