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影响产生均匀等离子体状态的几个因素

许琰 蓝可 赖东显 冯庭桂

许琰, 蓝可, 赖东显, 等. 影响产生均匀等离子体状态的几个因素[J]. 强激光与粒子束, 2002, 14(03).
引用本文: 许琰, 蓝可, 赖东显, 等. 影响产生均匀等离子体状态的几个因素[J]. 强激光与粒子束, 2002, 14(03).
xu yan, lan ke, lai dong-xian, et al. Impact of tamped sample target structure on production of uniform plasmas[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2002, 14.
Citation: xu yan, lan ke, lai dong-xian, et al. Impact of tamped sample target structure on production of uniform plasmas[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2002, 14.

影响产生均匀等离子体状态的几个因素

Impact of tamped sample target structure on production of uniform plasmas

  • 摘要: 用数值模拟方法研究利用辐射加热来产生均匀等离子体状态,它可被用来测量元素的辐射不透明度,校验辐射不透明度理论。研究了在辐射加热铁的“三明治”型靶时影响生成均匀等离子体状态的几个重要因素(样品厚度、CH膜厚度和辐射源)所起的作用,研究发现,当铁等离子体通过热传导达到均匀状态时,其尺度必须与此时的传热距离相当,从而定出铁样品的厚度;低Z介质CH膜对铁等离子体有明显的箍束作用,调整CH膜的厚度可以调节所产生的等离子体状态;调整不同方向上的CH膜厚度,可以控制铁等离子体的膨胀方向,使它尽可能地达到一维膨胀,使得反推出的等离子体密度可以更加准确;样品的种类、厚度以及外面的低Z介质厚度决定了在某时刻能获得的等离子体状态,以及为产生此等离子体状态所需的最低辐射能。
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  • 刊出日期:  2002-06-15

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