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细电子束像差与畸变参量非劣解中的最优解

尹明 吕风杰 张其武

尹明, 吕风杰, 张其武. 细电子束像差与畸变参量非劣解中的最优解[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17: 271- .
引用本文: 尹明, 吕风杰, 张其武. 细电子束像差与畸变参量非劣解中的最优解[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17: 271- .
yin ming, l feng-jie, zhang qi-wu. Optimum for the parameters of aberration and distortion of narrow e-beam in normal solution[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17: 271- .
Citation: yin ming, l feng-jie, zhang qi-wu. Optimum for the parameters of aberration and distortion of narrow e-beam in normal solution[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17: 271- .

细电子束像差与畸变参量非劣解中的最优解

Optimum for the parameters of aberration and distortion of narrow e-beam in normal solution

  • 摘要: 以电子束偏转磁场的像差和畸变为目标,对参量进行非劣解中找出贴近理想的最优解。以SDS-3电子束曝光机的磁复合偏转系统为基础,分析了像差与电子束主轨迹的关系。并给出了磁聚焦和静电的偏转场相复合情况下竖轴的3级几何像差系数和1级色差系数公式。应用中表明,复合系统结构简单紧凑,像差小而可以不用动态校正。
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-02-15

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