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Nd薄膜靶表面氧化过程研究

赖珍荃 陈建荣 杜保旗 陈玲燕 王珏

赖珍荃, 陈建荣, 杜保旗, 等. Nd薄膜靶表面氧化过程研究[J]. 强激光与粒子束, 1997, 09(02).
引用本文: 赖珍荃, 陈建荣, 杜保旗, 等. Nd薄膜靶表面氧化过程研究[J]. 强激光与粒子束, 1997, 09(02).

Nd薄膜靶表面氧化过程研究

  • 摘要: 用Auger电子能谱(AES)对X光激光实验使用的Nd薄膜靶的表面氧化进行了分析,结合Ar离子束刻蚀进行元素的深度分布剖析,得到了表面氧化层厚度,所得结果与Rutherford背散射(RBS)方法测量的结果相吻合。实验表明,样品暴露在空气中20至30min,氧化即基本达到饱和,相应的氧化层厚度约为20nm,氧化层的组分以NdO为主。
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出版历程
  • 刊出日期:  1997-05-15

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