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用离焦4f差分干涉仪测量等离子体壳层电子密度

陈光华 李泽仁 刘寿先 陈林

陈光华, 李泽仁, 刘寿先, 等. 用离焦4f差分干涉仪测量等离子体壳层电子密度[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(07).
引用本文: 陈光华, 李泽仁, 刘寿先, 等. 用离焦4f差分干涉仪测量等离子体壳层电子密度[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(07).
chen guang-hua, li ze-ren, liu shou-xian, et al. Defocused 4f differential interferometer for diagnosing electron density distribution in plasma sheath[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.
Citation: chen guang-hua, li ze-ren, liu shou-xian, et al. Defocused 4f differential interferometer for diagnosing electron density distribution in plasma sheath[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.

用离焦4f差分干涉仪测量等离子体壳层电子密度

Defocused 4f differential interferometer for diagnosing electron density distribution in plasma sheath

  • 摘要: 将环型横向剪切干涉仪置于两个镜头之间,由此设计出一种新型的离焦4f差分干涉仪,该干涉仪同时具有分离光路的剪切量和条纹空间频率分别可调的优点以及共光路结构的稳定性和易于调节的优点,使得在测量大密度梯度等离子体的密度分布时,可以在不降低空间分辨率的条件下仍保证干涉条纹可读。在DPF装置上进行了实验,获得了等离子体壳层的干涉图样,计算了等离子体的径向电子密度分布,在内电极端面上方测量到的最高电子密度约为1.2×1019 cm-3,外围等离子体壳层的电子密度约为2×1018 cm-3。
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  • 刊出日期:  2005-07-15

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