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氧分压对ZrO2薄膜激光损伤阈值的影响

张东平 赵元安 范树海 高卫东 邵建达 范正修

张东平, 赵元安, 范树海, 等. 氧分压对ZrO2薄膜激光损伤阈值的影响[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(01).
引用本文: 张东平, 赵元安, 范树海, 等. 氧分压对ZrO2薄膜激光损伤阈值的影响[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(01).
zhang dong-ping, zhao yuan-an, fan shu-hai, et al. Influences of oxygen partial pressure on the laser induced damage threshold of ZrO2 film[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.
Citation: zhang dong-ping, zhao yuan-an, fan shu-hai, et al. Influences of oxygen partial pressure on the laser induced damage threshold of ZrO2 film[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.

氧分压对ZrO2薄膜激光损伤阈值的影响

Influences of oxygen partial pressure on the laser induced damage threshold of ZrO2 film

  • 摘要: 在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法制备了ZrO2薄膜。分别通过X射线衍射、光学光谱、热透镜技术、抗激光辐照等测试,对所制备样品的微结构、折射率、吸收率及激光损伤阈值进行了测量。实验结果表明,薄膜中晶粒主要是四方相为主的多晶结构,并且随着氧分压的增加,结晶度、折射率以及弱吸收均逐渐降低。薄膜的激光损伤阈值开始随着氧分压增加从18.5J/cm2逐渐增加,氧分压为9×10-3Pa时达到最大,值为26.7 J/cm2,氧分压再增加时则又降低到17.5 J/cm2。由此可见,氧分压引起的薄膜微结构变化是ZrO2薄膜激光损伤阈值变化的主要原因。
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-01-15

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