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提高砷化镓二次电子发射系数的探讨

谢爱根 裴元吉 王荣 孙红兵

谢爱根, 裴元吉, 王荣, 等. 提高砷化镓二次电子发射系数的探讨[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17: 279- .
引用本文: 谢爱根, 裴元吉, 王荣, 等. 提高砷化镓二次电子发射系数的探讨[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17: 279- .
xie ai-gen, pei yuan-ji, wang rong, et al. Discussion of the improving secondary electron emission coefficient[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17: 279- .
Citation: xie ai-gen, pei yuan-ji, wang rong, et al. Discussion of the improving secondary electron emission coefficient[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17: 279- .

提高砷化镓二次电子发射系数的探讨

Discussion of the improving secondary electron emission coefficient

  • 摘要: 介绍了延长负电子亲和势二次电子发射材料砷化镓的逸出深度的设计,并给出了经过特殊设计的这种砷化镓的能级示意图,然后对通常的砷化镓和经过特殊设计的砷化镓的二次电子发射系数的理论值进行了比较,得出:当原电子入射能量较低(小于10 keV)时,两种砷化镓的二次电子发射系数差值较小;当原电子入射能量较高(大于20 keV)时,经过特殊设计的砷化镓的二次电子发射系数比普通砷化镓的二次电子发射系数大,而且随着原电子入射能量的升高,两种砷化镓的二次电子发射系数差值也在增大。
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  • 刊出日期:  2005-02-15

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