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合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算

王琳 徐宏亮 尚雷 王相綦 李为民

王琳, 徐宏亮, 尚雷, 等. 合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(04).
引用本文: 王琳, 徐宏亮, 尚雷, 等. 合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(04).
wang lin, xu hong liang, shang lei, et al. Longitudinal impedance calculation of coated ceramic vacuum chamber at HLS[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.
Citation: wang lin, xu hong liang, shang lei, et al. Longitudinal impedance calculation of coated ceramic vacuum chamber at HLS[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.

合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算

Longitudinal impedance calculation of coated ceramic vacuum chamber at HLS

  • 摘要: 在估计合肥光源新注入系统中回形镀膜陶瓷真空室的耦合阻抗时,对于规则轴对称边界,可以采用场匹配技术求解柱坐标系中Maxwell方程得到耦合阻抗解析表达式。对于非规则形状,解析求解困难,须根据同轴线方法测量纵向阻抗基本原理,数值计算镀膜陶瓷真空室耦合阻抗。计算结果表明,陶瓷真空室内表面镀金属膜可以大大降低束流耦合阻抗,但镀膜陶瓷真空室仍是合肥光源储存环的主要阻抗来源之一。
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出版历程
  • 刊出日期:  2003-04-15

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