留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算

王琳 徐宏亮 尚雷 王相綦 李为民

王琳, 徐宏亮, 尚雷, 等. 合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(04).
引用本文: 王琳, 徐宏亮, 尚雷, 等. 合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(04).
wang lin, xu hong liang, shang lei, et al. Longitudinal impedance calculation of coated ceramic vacuum chamber at HLS[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.
Citation: wang lin, xu hong liang, shang lei, et al. Longitudinal impedance calculation of coated ceramic vacuum chamber at HLS[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.

合肥光源镀膜陶瓷真空室纵向阻抗计算

Longitudinal impedance calculation of coated ceramic vacuum chamber at HLS

  • 摘要: 在估计合肥光源新注入系统中回形镀膜陶瓷真空室的耦合阻抗时,对于规则轴对称边界,可以采用场匹配技术求解柱坐标系中Maxwell方程得到耦合阻抗解析表达式。对于非规则形状,解析求解困难,须根据同轴线方法测量纵向阻抗基本原理,数值计算镀膜陶瓷真空室耦合阻抗。计算结果表明,陶瓷真空室内表面镀金属膜可以大大降低束流耦合阻抗,但镀膜陶瓷真空室仍是合肥光源储存环的主要阻抗来源之一。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  2626
  • HTML全文浏览量:  314
  • PDF下载量:  608
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2003-04-15

目录

    /

    返回文章
    返回