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高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量

侯海虹 洪瑞金 范正修 易葵 邵建达

侯海虹, 洪瑞金, 范正修, 等. 高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18(04).
引用本文: 侯海虹, 洪瑞金, 范正修, 等. 高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量[J]. 强激光与粒子束, 2006, 18(04).
hou hai-hong, hong rui-jin, fan zheng-xiu, et al. Measurement of surface and volume scattering of glass substrates with high finish[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.
Citation: hou hai-hong, hong rui-jin, fan zheng-xiu, et al. Measurement of surface and volume scattering of glass substrates with high finish[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2006, 18.

高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量

Measurement of surface and volume scattering of glass substrates with high finish

  • 摘要: 提出了一种利用总积分散射(TIS)测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜,然后将基片的表面和体区分开考虑,通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度, 进而求得基片的总散射和表面散射,最后计算得到了体散射。分别利用TIS和原子力显微镜(AFM)测量了3个样品上表面所镀Ag膜的均方根粗糙度,两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显,差值分别为0.08,0.11和0.09 nm, 表明TIS和AFM的测量结果相一致。利用该方法测得3块K9玻璃基片的总散射分别为6.06×10-4,5.84×10-4和6.48×10-4,表面散射介于1.25×10-4~1.56×10-4之间,由此计算得到的体散射分别为3.10×10-4,3.30×10-4和3.61×10-4。
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  • 刊出日期:  2006-04-15

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