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六硼化镧场发射阴极阵列的制作及特性

王小菊 蒋亚东 林祖伦 祁康成 陈泽祥

王小菊, 蒋亚东, 林祖伦, 等. 六硼化镧场发射阴极阵列的制作及特性[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(02).
引用本文: 王小菊, 蒋亚东, 林祖伦, 等. 六硼化镧场发射阴极阵列的制作及特性[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(02).
wang xiao-ju, ijang ya-dong, lin zu-lun, et al. Fabrication and field emission characteristics of LaB6 field-emitter arrays[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.
Citation: wang xiao-ju, ijang ya-dong, lin zu-lun, et al. Fabrication and field emission characteristics of LaB6 field-emitter arrays[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.

六硼化镧场发射阴极阵列的制作及特性

Fabrication and field emission characteristics of LaB6 field-emitter arrays

  • 摘要: 采用氧等离子体氧化刻蚀工艺,制备出尖锐的六硼化镧(LaBLaB6)微尖锥场发射阵列。在二极管结构中测试了LaB6-FEAs的场发射性能,得到了真空度为5×10-5 Pa 下的I-V曲线及相应的Fowler-Nordheim节点。结果表明,由于LaBLaB6材料较低的逸出功,使得阴极的开启电压较小,开启场仅为7 V/μm。此外,将氧等离子体氧化刻蚀方法与氩氧等离子体刻蚀方法和电化学刻蚀方法进行了比较,表明氧等离子体氧化刻蚀方法是制备LaB6场发射阴极阵列的一种理想工艺。
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出版历程
  • 刊出日期:  2008-02-15

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