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CO2激光和等离子体清洗提高石英基片损伤阈值

李绪平 祖小涛 袁晓东 蒋晓东 吕海兵 郑万国 唐灿 李珂 向霞 郭袁俊 徐世珍 袁兆林

李绪平, 祖小涛, 袁晓东, 等. CO2激光和等离子体清洗提高石英基片损伤阈值[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(10).
引用本文: 李绪平, 祖小涛, 袁晓东, 等. CO2激光和等离子体清洗提高石英基片损伤阈值[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(10).
li xu-ping, zu xiao-tao, yuan xiao-dong, et al. Effects of CO2 laser and vacuum plasma cleanings on silica-oil-and-grease polluted quartz substrates[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19.
Citation: li xu-ping, zu xiao-tao, yuan xiao-dong, et al. Effects of CO2 laser and vacuum plasma cleanings on silica-oil-and-grease polluted quartz substrates[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19.

CO2激光和等离子体清洗提高石英基片损伤阈值

Effects of CO2 laser and vacuum plasma cleanings on silica-oil-and-grease polluted quartz substrates

  • 摘要: 采用连续CO2激光和真空等离子体相结合的方法对石英基片进行清洗。通过光学显微图、水接触角、透过率和损伤阈值测量分别表征了CO2激光和等离子体对真空硅脂蒸发物污染过的石英基片的清洗效果。研究表明:对于真空硅脂蒸发物污染后的石英基片,可以先采用低能量的CO2激光进行大面积清洗,再用真空等离子体进行精细清洗。光学显微图像表明:清洗后的基片表面的油珠被清除干净;水滴接触角由63°下降到4°;在400 nm附近,基片透过率由92.3%上升到93.3%;损伤阈值由3.77 J/cm2上升到5.09 J/cm2。
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出版历程
  • 刊出日期:  2007-10-15

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