留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

采用旋转涂膜法制备基底生长的定向碳纳米管阵列

关峰 王朝阳 唐永建 闫红梅

关峰, 王朝阳, 唐永建, 等. 采用旋转涂膜法制备基底生长的定向碳纳米管阵列[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(11).
引用本文: 关峰, 王朝阳, 唐永建, 等. 采用旋转涂膜法制备基底生长的定向碳纳米管阵列[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(11).
guan feng, wang chao-yang, tang yong-jian, et al. Aligned carbon nanotubes growing on catalyst film prepared by spin coating[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19.
Citation: guan feng, wang chao-yang, tang yong-jian, et al. Aligned carbon nanotubes growing on catalyst film prepared by spin coating[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19.

采用旋转涂膜法制备基底生长的定向碳纳米管阵列

Aligned carbon nanotubes growing on catalyst film prepared by spin coating

  • 摘要: 采用化学气相沉积技术,利用旋转涂膜法制备催化剂基底材料,通过对涂膜过程中的角速度、旋转时间以及基底还原过程中温度的控制改变催化剂颗粒的分布状态,获得了粒径均匀分布的催化剂基底,该基底上催化剂颗粒集中分布在47~62 nm区间,再利用该基底生长出定向碳纳米管阵列。运用扫描电镜、透射电镜、拉曼光谱仪对样品进行了表征。结果表明旋转涂膜法制备的基底平整性好于普通的滴膜法,且较其它基底制备方法具有简单易控、可使催化剂均匀分散等特点。利用该基底制备的碳纳米管阵列定向性良好。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  2770
  • HTML全文浏览量:  239
  • PDF下载量:  614
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2007-11-15

目录

    /

    返回文章
    返回