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磁性ICF玻璃靶丸的化学镀工艺

杨文彬 张新超 卢苇 周元林 戴亚堂

杨文彬, 张新超, 卢苇, 等. 磁性ICF玻璃靶丸的化学镀工艺[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(08).
引用本文: 杨文彬, 张新超, 卢苇, 等. 磁性ICF玻璃靶丸的化学镀工艺[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(08).
yang wen-bin, zhang xin-chao, lu wei, et al. Process of electroless plating on magnetic ICF glass targets[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.
Citation: yang wen-bin, zhang xin-chao, lu wei, et al. Process of electroless plating on magnetic ICF glass targets[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20.

磁性ICF玻璃靶丸的化学镀工艺

Process of electroless plating on magnetic ICF glass targets

  • 摘要: 采用化学镀工艺在ICF玻璃靶丸表面包覆了一层磁性的Ni-P合金镀层,制备出磁性ICF玻璃靶丸。研究了化学镀主盐质量浓度、还原剂质量浓度、络合剂质量浓度、施镀温度及镀液pH值对沉积速率与镀液稳定性的影响,获得了化学镀制备磁性ICF玻璃靶丸的最佳工艺为:主盐硫酸镍30 g/L,还原剂次亚磷酸钠30 g/L,络合剂柠檬酸钠50 g/L,pH值10,温度(40±2) ℃。
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  • 刊出日期:  2008-08-15

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