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杂质元素特征X射线对氢气放电源打靶新谱线的影响

秦建国 王大伦 赖财锋

秦建国, 王大伦, 赖财锋. 杂质元素特征X射线对氢气放电源打靶新谱线的影响[J]. 强激光与粒子束, 2009, 21(07).
引用本文: 秦建国, 王大伦, 赖财锋. 杂质元素特征X射线对氢气放电源打靶新谱线的影响[J]. 强激光与粒子束, 2009, 21(07).
qin jianguo, wang dalun, lai caifeng. Influence of characteristic X-ray of impurity element on anonymous spectral lines excited by hydrogen gas discharge source bombarding targets[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2009, 21.
Citation: qin jianguo, wang dalun, lai caifeng. Influence of characteristic X-ray of impurity element on anonymous spectral lines excited by hydrogen gas discharge source bombarding targets[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2009, 21.

杂质元素特征X射线对氢气放电源打靶新谱线的影响

Influence of characteristic X-ray of impurity element on anonymous spectral lines excited by hydrogen gas discharge source bombarding targets

  • 摘要: 在氢气放电源打靶的实验中,测到了系列能量恒定不变的低能X射线新谱线,这些新谱线的能量分别为(1.70±0.10) keV, (2.25±0.07) keV,(2.56±0.08) keV,(3.25±0.10) keV和(3.62±0.11) keV,与Si,Ta,S,Cl,K和Ca等元素的特征X射线能量相近,但靶中所含的杂质或来自放电室的杂质元素可能会产生这些能量的X射线谱峰,证实新谱线是否由这些元素的特征X射线干扰所致显得尤为重要。分析了本实验系统中各种杂质的可能来源,论证了放电室端杂质对新谱线的影响,及靶材料中体杂质和面杂质对新谱线的影响;用X射线光电子能谱仪对靶做了表面分析。研究结果表明:杂质元素的特征X射线不会对氢气放电源打靶产生的新谱线有影响。这些新谱线的性质有待进一步的实验研究。
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  • 刊出日期:  2009-07-15

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