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屏电极结构对微通道板成像器间隙放电的影响

曹柱荣 杨正华 白晓红 张海鹰 刘慎业 丁永坤

曹柱荣, 杨正华, 白晓红, 等. 屏电极结构对微通道板成像器间隙放电的影响[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(06).
引用本文: 曹柱荣, 杨正华, 白晓红, 等. 屏电极结构对微通道板成像器间隙放电的影响[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(06).
cao zhurong, yang zhenghua, bai xiaohong, et al. Effect of screen-electrode structures on MCP imager vacuum-gap discharge[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.
Citation: cao zhurong, yang zhenghua, bai xiaohong, et al. Effect of screen-electrode structures on MCP imager vacuum-gap discharge[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.

屏电极结构对微通道板成像器间隙放电的影响

Effect of screen-electrode structures on MCP imager vacuum-gap discharge

  • 摘要: 利用铝屏和氧化铟锡(ITO)屏两种结构的微通道板(MCP)成像器进行了放电实验,通过直流首击穿后器件的绝缘强度和电极熔蚀形貌变化,分析了屏电极结构对放电的影响。实验表明,铝屏MCP成像器首击穿后,铝膜电极出现如火山口状的熔蚀形貌,在10 μs脉冲屏压下绝缘强度降低到3 kV/mm以下,绝缘强度与MCP无关。而ITO屏MCP成像器首击穿后,荧光质向MCP的质量迁移具有抑制阴极发射的作用,所以放电具有稳定的场发射特性,在10 μs脉冲屏压下绝缘强度可达到9 kV/mm。分析表明,MCP成像器间隙放电的发展主要依赖于屏电极结构,ITO屏的电极结构有利于MCP成像器绝缘性能的提高。
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  • 刊出日期:  2010-06-03

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