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化学激光器用文氏咀的临界背压比

闫宝珠 袁圣付 王志刚 陆启生

闫宝珠, 袁圣付, 王志刚, 等. 化学激光器用文氏咀的临界背压比[J]. 强激光与粒子束, 2009, 21(11).
引用本文: 闫宝珠, 袁圣付, 王志刚, 等. 化学激光器用文氏咀的临界背压比[J]. 强激光与粒子束, 2009, 21(11).
yan baozhu, yuan shengfu, wang zhigang, et al. Experimental investigation on critical background-pressure ratio of Venturi for chemical laser[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2009, 21.
Citation: yan baozhu, yuan shengfu, wang zhigang, et al. Experimental investigation on critical background-pressure ratio of Venturi for chemical laser[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2009, 21.

化学激光器用文氏咀的临界背压比

Experimental investigation on critical background-pressure ratio of Venturi for chemical laser

  • 摘要: 建立了一套文氏咀临界背压比的测量系统,分别以氮气、氩气和氧气为工作介质,对两种加工工艺、不同规格文氏咀的临界背压比进行了测量,得到了各文氏咀对应不同工作介质的临界背压比,讨论了实验系统中第一个文氏咀的作用和温度对测量结果的影响。实验结果表明:设计合理、工艺合适的Laval喷管,临界背压比明显高于临界压力比,而且,比热容比越小,表面粗糙度等级越高,喉道直径越大,对应的临界背压比越大。
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出版历程
  • 刊出日期:  2009-11-15

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