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电解抛光法制备金属钨箔膜

宋萍 邢丕峰 谌家军2 李朝阳 谢军 郑凤成

宋萍, 邢丕峰, 谌家军2, 等. 电解抛光法制备金属钨箔膜[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(02).
引用本文: 宋萍, 邢丕峰, 谌家军2, 等. 电解抛光法制备金属钨箔膜[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(02).
song ping, xing pifeng, chen jiajun, et al. Preparation of tungsten foil by electropolishing[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.
Citation: song ping, xing pifeng, chen jiajun, et al. Preparation of tungsten foil by electropolishing[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.

电解抛光法制备金属钨箔膜

Preparation of tungsten foil by electropolishing

  • 摘要: 研究了在硫酸甲醇体系中进行电解抛光制备状态方程(EOS)靶用钨薄膜。分析了钨的阳极极化曲线,对薄膜的表面形貌、晶粒取向、密度和厚度一致性进行了测试和分析,并制备出均方根粗糙度小于50 nm、厚度一致性好于99%、能够保持原材料密度的钨箔膜,满足激光驱动材料高温高压状态方程研究的标准靶材料的需求,证明电解抛光是制备低表面粗糙度、块材密度的EOS所用金属箔材的有效手段。
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  • 刊出日期:  2010-02-15

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