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基片及其上方回转椭球粒子极化光散射

巩蕾 吴振森

巩蕾, 吴振森. 基片及其上方回转椭球粒子极化光散射[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(06).
引用本文: 巩蕾, 吴振森. 基片及其上方回转椭球粒子极化光散射[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(06).
gong lei, wu zhensen. Polarized light scattering from a spheroid particle on or near a wafer[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.
Citation: gong lei, wu zhensen. Polarized light scattering from a spheroid particle on or near a wafer[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.

基片及其上方回转椭球粒子极化光散射

Polarized light scattering from a spheroid particle on or near a wafer

  • 摘要: 基于BV理论建立基片及其上方回转椭球粒子的复合散射模型,通过矢量球谐函数展开,对散射过程进行了分析,对散射场及微分散射截面详细求解,并给出了数值计算结果,与离散源方法做了比较,同时退化为球粒子与扩展Mie理论做了比较,说明了此方法的有效性。并详细讨论分析了微分散射截面随不同入射角,散射角,回转椭球粒子的尺寸、长短轴比例,距基片的距离,介电常数,粒子取向角的变化关系。结果表明:同一散射角下入射角越大,其微分散射截面越大;粒子尺寸越大,相互作用越大,其微分散射截面越大;长短轴比例越大,其微分散射截面越小;距离基片的距离越大,微分散射截面越大;微分散射截面的变化主要依赖于相对介电常数实部、虚部数值较大的一方,并且随粒子取向角的增大而增大。
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  • 刊出日期:  2010-06-03

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