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双真空烘烤排气台的研制及应用

吴守东,  陈林,  徐敏,  姚斌,  陈雪松

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文章导航 > 强激光与粒子束  > 2003 >  15(02): 0-
吴守东, 陈林, 徐敏, 等. 双真空烘烤排气台的研制及应用[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(02).
引用本文: 吴守东, 陈林, 徐敏, 等. 双真空烘烤排气台的研制及应用[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(02).
shu
wu shou-dong, chen lin, xu min, et al. Design and application of the double-vacuum bake device[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.
Citation: wu shou-dong, chen lin, xu min, et al. Design and application of the double-vacuum bake device[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.
shu

双真空烘烤排气台的研制及应用

  • 1.

    中国工程物理研究院 流体物理研究所, 四川 绵阳 621 900

Design and application of the double-vacuum bake device

  • 1.

    Institute of Fluid Physics,CAEP,P.O.Box 919-108,Mianyang 621900,China

    摘要
  • 摘要: 分析了放电管稳定试验前的烘烤排气对等离子体焦点装置试验结果的影响，介绍了双真空烘烤排气台的原理和结构设计，并利用试验数据说明了该排气台在等离子体焦点装置试验中的重要性，在实际应用中具有潜在的实用价值。
    Abstract: The influence of the vacuum bake of plasma focus device before discharge experiment on stability and reliability of DPF has been discussed in this paper. The structure, mechanical design and the working principle of the doublevacuum bake device have also been introduced. As a result, the importance of doublevacuum bake of DPF device and the potential application have been shown according to the experimental data．
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出版历程
  • 刊出日期:  2003-02-15

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