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影响高功率光导开关临界频率热因素的数值分析

赵越 谢卫平 李洪涛 刘金锋 刘宏伟 赵士操 袁建强

赵越, 谢卫平, 李洪涛, 等. 影响高功率光导开关临界频率热因素的数值分析[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(11).
引用本文: 赵越, 谢卫平, 李洪涛, 等. 影响高功率光导开关临界频率热因素的数值分析[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(11).
zhao yue, xie weiping, li hongtao, et al. Numerical simulation on factors affecting critical frequency of high-power photoconductive semiconductor switch[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.
Citation: zhao yue, xie weiping, li hongtao, et al. Numerical simulation on factors affecting critical frequency of high-power photoconductive semiconductor switch[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.

影响高功率光导开关临界频率热因素的数值分析

Numerical simulation on factors affecting critical frequency of high-power photoconductive semiconductor switch

  • 摘要: 基于时域有限差分法(FDTD)对非线性模式面结构砷化镓光导开关的热传导过程进行了数值模拟。研究了光导开关临界频率与电流丝位置、半径、数量、芯片尺寸、环境温度等参数的关系。研究表明:临界频率随电流丝半径、数量的增加,呈指数上升趋势;临界频率随着电流丝深度、芯片厚度的增加,呈指数下降趋势;临界频率在一定范围内随环境温度的增加呈线性下降趋势。
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  • 刊出日期:  2010-09-29

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