留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响

杨伟 李海波 张清华 马红菊 惠浩浩 刘志超 马平

杨伟, 李海波, 张清华, 等. 改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(12).
引用本文: 杨伟, 李海波, 张清华, 等. 改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2010, 22(12).
yang wei, li haibo, zhang qinghua, et al. Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.
Citation: yang wei, li haibo, zhang qinghua, et al. Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2010, 22.

改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响

Effect of modifiers on uniformity of spin-coated sol-gel silica antireflective films

  • 摘要: 分析了采用旋转涂膜法制备溶胶-凝胶SiO2减反膜过程中条纹缺陷产生的机理,利用含氟醇类试剂对减反膜溶胶进行改性,使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善。在光学显微镜下对改性前后的膜层进行了对比和分析,对膜层的表面形貌、表面粗糙度以及透射比等特性进行了表征。结果表明:溶胶改性之后的膜层未出现条纹缺陷,表面粗糙度均方根值从4.55 nm下降到小于1.00 nm,膜层表面质量有了较大提高;改性前后膜层的增透性能相当,在熔石英基片上制备的膜层峰值透射比为99.60%~99.89%,膜层激光损伤阈值为21.0~25.3 J/cm2。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  1997
  • HTML全文浏览量:  217
  • PDF下载量:  413
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2010-12-07

目录

    /

    返回文章
    返回