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二次发射微波电子枪的倍增特性

孙红兵 裴元吉 谢爱根 王荣

孙红兵, 裴元吉, 谢爱根, 等. 二次发射微波电子枪的倍增特性[J]. 强激光与粒子束, 2004, 16(11).
引用本文: 孙红兵, 裴元吉, 谢爱根, 等. 二次发射微波电子枪的倍增特性[J]. 强激光与粒子束, 2004, 16(11).
sun hong-bing, pei yuan-ji, xie ai-gen, et al. Multiplication effect of the secondary emission microwave electron gun[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2004, 16.
Citation: sun hong-bing, pei yuan-ji, xie ai-gen, et al. Multiplication effect of the secondary emission microwave electron gun[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2004, 16.

二次发射微波电子枪的倍增特性

Multiplication effect of the secondary emission microwave electron gun

  • 摘要: 利用3DRun程序通过数值模拟计算,对二次发射微波电子枪的束流倍增特性作了研究。用1维模型计算了束流倍增与腔两极间距离以及腔中场强的关系,并详细给出了腔两极间距离为10mm,场强为5-4MV/m时出射电子纵向聚束及能量聚焦过程;利用3DRun程序研究了在高频场及粒子束本身空间电荷场的共同作用下,束流在3维运动过程中的倍增特性,计算了出射束流的发射度。通过计算表明:二次发射微波电子枪可以提供低发射度、高流强的电子束。
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出版历程
  • 刊出日期:  2004-11-15

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