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HfO2/SiO2双色膜在1 064 nm和532 nm激光辐照下的损伤特性

潘峰 陈松林 李海波 马平 王震

潘峰, 陈松林, 李海波, 等. HfO2/SiO2双色膜在1 064 nm和532 nm激光辐照下的损伤特性[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(01).
引用本文: 潘峰, 陈松林, 李海波, 等. HfO2/SiO2双色膜在1 064 nm和532 nm激光辐照下的损伤特性[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(01).
pan feng, chen songlin, li haibo, et al. Laser-induced damage of 1 064 nm antireflection/532 nm high-reflection bichromatic coatings[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: pan feng, chen songlin, li haibo, et al. Laser-induced damage of 1 064 nm antireflection/532 nm high-reflection bichromatic coatings[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

HfO2/SiO2双色膜在1 064 nm和532 nm激光辐照下的损伤特性

Laser-induced damage of 1 064 nm antireflection/532 nm high-reflection bichromatic coatings

  • 摘要: 采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
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  • 刊出日期:  2010-12-27

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