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基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备

刘华松 王占山 季一勤 沈正祥 马彬 程鑫彬 焦宏飞 陈德应 刘丹丹 宋洪君

刘华松, 王占山, 季一勤, 等. 基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(02).
引用本文: 刘华松, 王占山, 季一勤, 等. 基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(02).
liu huasong, wang zhanshan, ji yiqin, et al. Fabrication of broadband antireflection coating based on ion beam sputtering deposition technique with time-power monitoring[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: liu huasong, wang zhanshan, ji yiqin, et al. Fabrication of broadband antireflection coating based on ion beam sputtering deposition technique with time-power monitoring[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备

Fabrication of broadband antireflection coating based on ion beam sputtering deposition technique with time-power monitoring

  • 摘要: 为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜,利用离子束溅射沉积技术,在时间-功率控厚的模式下,对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中,利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术,选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合,在超抛ZF6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜,通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算,获得膜层厚度修正系数,初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律。利用修正后的沉积参数制备设计的膜系,在0°~30°入射角度下,600~1 200 nm波段的平均透过率达到99%以上。
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  • 刊出日期:  2011-01-25

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