留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

制备铋靶的脉冲电镀工艺

张红强 戴亚堂 张欢 夏姣

张红强, 戴亚堂, 张欢, 等. 制备铋靶的脉冲电镀工艺[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(02).
引用本文: 张红强, 戴亚堂, 张欢, 等. 制备铋靶的脉冲电镀工艺[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(02).
zhang hongqiang, dai yatang, zhang huan, et al. Pulse electroplating in bismuth target fabrication[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: zhang hongqiang, dai yatang, zhang huan, et al. Pulse electroplating in bismuth target fabrication[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

制备铋靶的脉冲电镀工艺

Pulse electroplating in bismuth target fabrication

  • 摘要: 采用脉冲电镀工艺,以直径为1 mm的铜丝为芯轴,在无氰镀液体系中,制备出惯性约束聚变实验用铋靶所需的金属铋镀层。通过正交试验得到的最佳脉冲工艺条件为:电流密度5 A/cm2,频率600 Hz,占空比1∶6,温度20 ℃。利用扫描探针显微镜和扫描电子显微镜分别对铋镀层表面形貌进行分析,同时利用X射线衍射对铋镀层物相成分进行分析。表征结果表明:所得铋镀层表面细致均匀,孔隙率低,平整性好,无裂纹。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  1870
  • HTML全文浏览量:  192
  • PDF下载量:  518
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2011-01-25

目录

    /

    返回文章
    返回