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不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响

董磊 赵元安 易葵 邵建达 范正修

董磊, 赵元安, 易葵, 等. 不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(10).
引用本文: 董磊, 赵元安, 易葵, 等. 不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(10).
dong lei, zhao yuan-an, yi kui, et al. Influence of different kinds of evaporation sources on films uniformity[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.
Citation: dong lei, zhao yuan-an, yi kui, et al. Influence of different kinds of evaporation sources on films uniformity[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2005, 17.

不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响

Influence of different kinds of evaporation sources on films uniformity

  • 摘要: 分析了几种可能的实际蒸发源与薄膜均匀性的关系,其中包括扩展的平面蒸发源和曲面蒸发源。通过实验论证了薄膜均匀性对蒸发源尺寸和蒸发特性的依赖关系。得到的分析结果表明:当蒸发源半径和夹具高度的比值小于1/17时,蒸发源可以被视为一个点面源;大于 1/10时,应当把蒸发源视为面面源进行考虑。当挖坑深度和蒸发源半径的比值介于0和0.5之间时,挖坑对薄膜均匀性造成的影响基本可以忽略;大于0.6时,挖坑效应明显影响薄膜的均匀性。
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-10-15

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