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在19.5 nm处高反在30.4 nm处抑制的双功能薄膜

蒋励 王晓强 谭默言 黄秋实 李浩川 周斯卡 朱京涛 王占山

蒋励, 王晓强, 谭默言, 等. 在19.5 nm处高反在30.4 nm处抑制的双功能薄膜[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(05).
引用本文: 蒋励, 王晓强, 谭默言, 等. 在19.5 nm处高反在30.4 nm处抑制的双功能薄膜[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(05).
jiang li, wang xiaoqiang, tan moyan, et al. Dual-functional multilayer for high-reflectivity at 19.5 nm and low-reflectivity at 30.4 nm[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: jiang li, wang xiaoqiang, tan moyan, et al. Dual-functional multilayer for high-reflectivity at 19.5 nm and low-reflectivity at 30.4 nm[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

在19.5 nm处高反在30.4 nm处抑制的双功能薄膜

Dual-functional multilayer for high-reflectivity at 19.5 nm and low-reflectivity at 30.4 nm

  • 摘要: 研究了极紫外波段的双功能光学元件。采用周期膜叠加的思想,运用遗传方法优化设计了在19.5 nm处高反,在30.4 nm处抑制的双功能多层膜。采用磁控溅射技术制备了多层膜,利用X射线衍射仪测试了多层膜的结构,在国家同步辐射实验室测试了双功能多层膜的反射特性。结果表明:制备出的双功能膜性能与设计相符,在入射角13°,19.5 nm处的反射率达到33.3%,接近传统的19.5 nm周期高反膜的反射率,并且在30.4 nm附近将反射率由1.1%降到9.6×10-4。
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出版历程
  • 刊出日期:  2011-05-11

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