留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

介质单边二次电子倍增的理论分析与数值模拟

董烨 董志伟 杨温渊

董烨, 董志伟, 杨温渊. 介质单边二次电子倍增的理论分析与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(07).
引用本文: 董烨, 董志伟, 杨温渊. 介质单边二次电子倍增的理论分析与数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(07).
dong ye, dong zhiwei, yang wenyuan. Theoretic analysis and numerical simulation of dielectric single-surface multipactor discharge[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: dong ye, dong zhiwei, yang wenyuan. Theoretic analysis and numerical simulation of dielectric single-surface multipactor discharge[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

介质单边二次电子倍增的理论分析与数值模拟

Theoretic analysis and numerical simulation of dielectric single-surface multipactor discharge

  • 摘要: 针对介质单边二次电子倍增现象,理论分析给出了其动力学方程、二次电子初始能量与角度分布,结合二次电子发射的材料特性,研究了二次电子倍增的理论预估敏感区间。利用蒙特卡罗方法抽样选取电子初始发射能量和角度,数值研究了二次电子倍增的敏感区间,并与理论结果进行了比对,给出了二次电子数目随时间的增长关系;采用固定时间步长并考虑电子束动态加载饱和效应的细致蒙特卡罗方法,研究了二次电子数目、直流场、射频场、介质表面沉积功率、电子放电功率、二次电子碰撞能量及电子渡越时间等二次电子倍增特性物理量的变化过程,并且讨论了初始电流及二次电子倍增工作点对二次电子倍增整个过程的影响作用,得出了二次电子倍增存在初始阈值发射电流密度的结论。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  1836
  • HTML全文浏览量:  260
  • PDF下载量:  1134
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2011-07-21

目录

    /

    返回文章
    返回