留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

高功率微波介质击穿中X射线和紫外线的初步诊断

秋实 刘国治 张治强 侯青 张庆元

秋实, 刘国治, 张治强, 等. 高功率微波介质击穿中X射线和紫外线的初步诊断[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(07).
引用本文: 秋实, 刘国治, 张治强, 等. 高功率微波介质击穿中X射线和紫外线的初步诊断[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(07).
qiu shi, liu guozhi, zhang zhiqiang, et al. X-ray and ultraviolet ray diagnosis of high power microwave dielectric breakdown[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: qiu shi, liu guozhi, zhang zhiqiang, et al. X-ray and ultraviolet ray diagnosis of high power microwave dielectric breakdown[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

高功率微波介质击穿中X射线和紫外线的初步诊断

X-ray and ultraviolet ray diagnosis of high power microwave dielectric breakdown

  • 摘要: 研制了一套宽光谱探测系统,该系统包括紫外成像探测器和X射线成像探测器两个工作单元。利用该系统对高功率微波(HPM)源运行及聚四氟乙烯介质窗受微波场作用而发生击穿时实验环境中的紫外线和X射线进行了初步诊断。结果表明:HPM源运行参数为重复频率100 Hz,运行时间5 s,介质窗未发生击穿时,微波源二极管区产生的X射线剂量为9.28×102~1.64×103 Gy,介质窗发生击穿时,环境中X射线剂量为5.38×102~1.09×103 Gy;随着微波脉冲重复频率和运行时间的增加,产生的X射线剂量明显增加。此外,利用该系统证实了实验环境中紫外线的存在。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  2056
  • HTML全文浏览量:  210
  • PDF下载量:  466
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2011-07-21

目录

    /

    返回文章
    返回