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利用多馈源激励改善混响室的场均匀性

李爽 王建国 谢海燕 陆希成

李爽, 王建国, 谢海燕, 等. 利用多馈源激励改善混响室的场均匀性[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(11).
引用本文: 李爽, 王建国, 谢海燕, 等. 利用多馈源激励改善混响室的场均匀性[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(11).
li shuang, wang jianguo, xie haiyan, et al. Improving field uniformity in reverberation chamber with multiple sources[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.
Citation: li shuang, wang jianguo, xie haiyan, et al. Improving field uniformity in reverberation chamber with multiple sources[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23.

利用多馈源激励改善混响室的场均匀性

Improving field uniformity in reverberation chamber with multiple sources

  • 摘要: 研究了多馈源激励对混响室内场分布的影响。根据理想封闭矩形腔体内电磁场表达式,分析了混响室内场分布的影响因素;通过对比电场的最大值、分布标准差及各向同性等统计特征,重点研究了多馈源激励对腔体内场分布的影响。研究结果表明:采用多馈源激励可以有效地提高场均匀性,有利于构造均匀的电磁场环境。同时也证明了利用该方法在混响室中研究高功率微波效应的可行性。
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出版历程
  • 刊出日期:  2011-11-29

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