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大口径反射元件环形抛光工艺

谢磊 马平 刘义彬 游云峰 鄢定尧

谢磊, 马平, 刘义彬, 等. 大口径反射元件环形抛光工艺[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1687-1690.
引用本文: 谢磊, 马平, 刘义彬, 等. 大口径反射元件环形抛光工艺[J]. 强激光与粒子束, 2012, 24: 1687-1690.
Xie Lei, Ma Ping, Liu Yibin, et al. Annular lapping of large-aperture reflective component[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1687-1690.
Citation: Xie Lei, Ma Ping, Liu Yibin, et al. Annular lapping of large-aperture reflective component[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2012, 24: 1687-1690.

大口径反射元件环形抛光工艺

详细信息
    通讯作者:

    谢磊

Annular lapping of large-aperture reflective component

  • 摘要: 根据环形抛光的加工特点,研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4 m环抛机上进行了610 mm440 mm85 mm的大口径反射元件加工工艺实验,研究了修正盘及工件盘转速与元件面形的关系、修正盘及工件盘位置与元件面形的关系、沥青盘槽形与元件面形的关系。研究结果表明,通过对修正盘及工件盘转速、修正盘及工件盘位置、沥青盘槽形等工艺参数的优化控制,能够得到大口径反射元件面形的高效收敛,元件最高面形精度优于/6(=632.8 nm),验证了加工工艺的有效性。
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出版历程
  • 刊出日期:  2012-07-15

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