留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

色分离光栅镀膜减反技术研究

杨春林 许乔 杨李茗 周礼书 张清华

杨春林, 许乔, 杨李茗, 等. 色分离光栅镀膜减反技术研究[J]. 强激光与粒子束, 2004, 16(02).
引用本文: 杨春林, 许乔, 杨李茗, 等. 色分离光栅镀膜减反技术研究[J]. 强激光与粒子束, 2004, 16(02).
yang chun-lin, xu qiao, yang li-ming, et al. Study on the anti-reflection technology of color separate gratings[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2004, 16.
Citation: yang chun-lin, xu qiao, yang li-ming, et al. Study on the anti-reflection technology of color separate gratings[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2004, 16.

色分离光栅镀膜减反技术研究

Study on the anti-reflection technology of color separate gratings

  • 摘要: 根据惯性约束聚变系统技术要求,提出一种镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响衍射效率的问题。对色分离光栅镀膜减反技术进行了详细的分析,根据标量理论给出了镀膜光栅的各项技术要求,优化了光栅结构参数。模拟计算结果发现,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过色分离光栅镀膜减反提高衍射效率的目的。该镀膜光栅刻槽深度的优化值为2.84μm,膜厚为等效1/4波长,即71.2nm。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  1920
  • HTML全文浏览量:  166
  • PDF下载量:  462
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2004-02-15

目录

    /

    返回文章
    返回