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陶瓷真空室镀膜工艺改进及脉冲磁场时间特性测量

尚雷 王相綦 蒋道满 王琳 赵枫 冯光耀

尚雷, 王相綦, 蒋道满, 等. 陶瓷真空室镀膜工艺改进及脉冲磁场时间特性测量[J]. 强激光与粒子束, 2004, 16(03).
引用本文: 尚雷, 王相綦, 蒋道满, 等. 陶瓷真空室镀膜工艺改进及脉冲磁场时间特性测量[J]. 强激光与粒子束, 2004, 16(03).
shang lei, wang xiang-qi, jiang dao-man, et al. Coating technology improvement of ceramic chamber and measurement of time characteristic of pulsed magnetic field[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2004, 16.
Citation: shang lei, wang xiang-qi, jiang dao-man, et al. Coating technology improvement of ceramic chamber and measurement of time characteristic of pulsed magnetic field[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2004, 16.

陶瓷真空室镀膜工艺改进及脉冲磁场时间特性测量

Coating technology improvement of ceramic chamber and measurement of time characteristic of pulsed magnetic field

  • 摘要: 介绍了合肥光源二期工程注入段陶瓷真空室的改进情况,采用新的镀膜技术,大大改善了脉冲磁场的延时特性,减少了储存环注入时的轨道扰动,提高了注入束流累积效速率。改进了原来的点线圈磁场测量方法,采用带有积分电路及抗干扰措施的双线圈测量装置测量了真空室内的脉冲磁场延时特性,使脉冲磁场延时误差测量的分辨率达到ns量级,给出了测量结果。
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出版历程
  • 刊出日期:  2004-03-15

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