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碳化硼薄膜的激光法制备及性能

王淑云 陆益敏 刘旭 黄国俊 郭延龙 万强 田方涛

王淑云, 陆益敏, 刘旭, 等. 碳化硼薄膜的激光法制备及性能[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 895-897.
引用本文: 王淑云, 陆益敏, 刘旭, 等. 碳化硼薄膜的激光法制备及性能[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25: 895-897.
Wang Shuyun, Lu Yimin, Liu Xu, et al. Preparation and properties of boron carbide film using pulsed laser deposition[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 895-897.
Citation: Wang Shuyun, Lu Yimin, Liu Xu, et al. Preparation and properties of boron carbide film using pulsed laser deposition[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25: 895-897.

碳化硼薄膜的激光法制备及性能

详细信息
    通讯作者:

    王淑云

Preparation and properties of boron carbide film using pulsed laser deposition

  • 摘要: 采用KrF准分子激光器,在Si,Ge光学衬底上制备了碳化硼薄膜,研究了不同激光能量、靶材与衬底距离、衬底负偏压等条件对薄膜性能的影响。利用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)和纳米压痕仪,并依据光学薄膜测试的通用标准,对样品的光学透过率、纳米硬度及膜层与衬底的结合性能进行了测试。结果表明:Si,Ge衬底单面镀碳化硼薄膜后最高透过率提高10%以上,纳米硬度提高到未镀膜的3倍以上,且膜层与衬底有较好的结合性能,表明制备的碳化硼薄膜可对光学材料起到较好的增透保护作用。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-07-25
  • 修回日期:  2012-11-06
  • 刊出日期:  2013-03-09

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