留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术

申林 熊胜明 刘洪祥 李凌辉 张云洞

申林, 熊胜明, 刘洪祥, 等. 氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(12).
引用本文: 申林, 熊胜明, 刘洪祥, 等. 氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(12).
shen lin, xiong sheng-ming, liu hong-xiang, et al. Technology of the high laser reflectivity oxide coatings deposition by ion-beam sputtering[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.
Citation: shen lin, xiong sheng-ming, liu hong-xiang, et al. Technology of the high laser reflectivity oxide coatings deposition by ion-beam sputtering[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2003, 15.

氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术

Technology of the high laser reflectivity oxide coatings deposition by ion-beam sputtering

  • 摘要: 研究了由Ta2O5和SiO2组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺。简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法。先后得到了Ta2O5和SiO2单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜折射率,并定性地分析比较了离子束溅射和电子束蒸发制备的薄膜结构;制备并测试了633nm,1 315nm反射薄膜以及增透膜。结果表明:采用离子束溅射技术能够制备出优良的、满足需要的激光高反射薄膜元件。
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  2499
  • HTML全文浏览量:  309
  • PDF下载量:  703
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2003-12-15

目录

    /

    返回文章
    返回