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W波段扩展互作用器件均匀磁聚焦电子光学系统

刘海敬 蒙林 殷勇 王彬

刘海敬, 蒙林, 殷勇, 等. W波段扩展互作用器件均匀磁聚焦电子光学系统[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 063034. doi: 10.11884/HPLPB201426.063034
引用本文: 刘海敬, 蒙林, 殷勇, 等. W波段扩展互作用器件均匀磁聚焦电子光学系统[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 063034. doi: 10.11884/HPLPB201426.063034
Liu Haijing, Meng Lin, Yin Yong, et al. W-band extended interaction device uniform magnetic focusing electronic optical system[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 063034. doi: 10.11884/HPLPB201426.063034
Citation: Liu Haijing, Meng Lin, Yin Yong, et al. W-band extended interaction device uniform magnetic focusing electronic optical system[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 063034. doi: 10.11884/HPLPB201426.063034

W波段扩展互作用器件均匀磁聚焦电子光学系统

doi: 10.11884/HPLPB201426.063034
详细信息
    通讯作者:

    刘海敬

W-band extended interaction device uniform magnetic focusing electronic optical system

  • 摘要: 扩展互作用器件,采用三个线圈和一个磁极实现均匀磁场分布。根据理论计算采用有限元法磁学(FEMM)仿真软件对所求磁场进行了建模分析,依据FEMM计算的磁场结合静电电子枪,采用CST仿真软件对高电流密度、高压缩比的电子注在均匀聚焦磁场的作用下传输进行优化。经过计算得出,在工作电压为17 kV、阴极发射电流密度小于10 A/cm2的条件下,由皮尔斯电子枪发射的电子注在均匀磁场的聚焦作用下传输良好,通过率为100%,得到了导流系数为0.175 P的电子枪,在均匀磁场区形成了高电流密度、高压缩比的电子注,平均电流密度达到343.17 A/cm2,压缩比为32,电子注横纵速度比为7.2%。
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-11-15
  • 修回日期:  2014-02-27
  • 刊出日期:  2014-05-15

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