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γ辐照前后多栅NMOS转移特性曲线交叉现象机理分析

潘立丁 石瑞英 龚敏 刘杰

潘立丁, 石瑞英, 龚敏, 等. γ辐照前后多栅NMOS转移特性曲线交叉现象机理分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 084003. doi: 10.11884/HPLPB201426.084003
引用本文: 潘立丁, 石瑞英, 龚敏, 等. γ辐照前后多栅NMOS转移特性曲线交叉现象机理分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26: 084003. doi: 10.11884/HPLPB201426.084003
Pan Liding, Shi Ruiying, Gong Min, et al. Mechanism of crossover of transconductance curves in 0.5 μm multi-finger NMOS FETs before and after γ irradiation[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 084003. doi: 10.11884/HPLPB201426.084003
Citation: Pan Liding, Shi Ruiying, Gong Min, et al. Mechanism of crossover of transconductance curves in 0.5 μm multi-finger NMOS FETs before and after γ irradiation[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26: 084003. doi: 10.11884/HPLPB201426.084003

γ辐照前后多栅NMOS转移特性曲线交叉现象机理分析

doi: 10.11884/HPLPB201426.084003
详细信息
    通讯作者:

    石瑞英

Mechanism of crossover of transconductance curves in 0.5 μm multi-finger NMOS FETs before and after γ irradiation

  • 摘要: 在研究0.5 m多栅NMOS场效应管辐照总剂量效应实验时,发现部分多栅NMOS器件辐照前后的转移特性曲线出现交叉现象,相关的解释鲜见报道。经过分析提出假设:部分多栅NMOS在辐照实验过程中各栅极受到剂量不均匀的辐照,导致辐照前后转移特性曲线出现交叉现象。计算机仿真结果表明:受到剂量不均匀的辐照后,多栅NMOS各栅极氧化层陷阱电荷和硅-二氧化硅界面电荷浓度不一致,使各栅极阈值电压不同步漂移,导致器件跨导退化和转移特性曲线交叉。通过仿真验证能够说明,所提出的假设合理地解释了实验中的现象。
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-01-08
  • 修回日期:  2014-05-09
  • 刊出日期:  2014-06-26

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