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硅中钛杂质对激光电场分布影响的数值模拟

刘阳 胡鹏 周海京

刘阳, 胡鹏, 周海京. 硅中钛杂质对激光电场分布影响的数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 103205. doi: 10.11884/HPLPB201527.103205
引用本文: 刘阳, 胡鹏, 周海京. 硅中钛杂质对激光电场分布影响的数值模拟[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 103205. doi: 10.11884/HPLPB201527.103205
Liu Yang, Hu Peng, Zhou Haijing. Effects of titanium impurities in silicon on electric-field distribution of laser[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 103205. doi: 10.11884/HPLPB201527.103205
Citation: Liu Yang, Hu Peng, Zhou Haijing. Effects of titanium impurities in silicon on electric-field distribution of laser[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 103205. doi: 10.11884/HPLPB201527.103205

硅中钛杂质对激光电场分布影响的数值模拟

doi: 10.11884/HPLPB201527.103205

Effects of titanium impurities in silicon on electric-field distribution of laser

  • 摘要: 采用T-matrix数值方法模拟光学系统常用的光学材料硅中金属钛杂质对激光电场分布的影响。分析了不同球形杂质数目、不同杂质球半径、不同球形杂质间距、不同球形杂质排列以及不同相对介电常数杂质对激光电场分布的影响,通过数值模拟了解到:电场幅值的最大值总是出现在沿入射波极化方向上,电场幅值的增大与相邻两球的耦合有关,且两球间距越小电场幅值的最大值越大;相对介电常数实部越小、虚部越大的杂质会导致较大的电场幅值最大值。
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出版历程
  • 收稿日期:  2015-05-06
  • 修回日期:  2015-08-07
  • 刊出日期:  2015-10-13

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