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基于梯度聚类离散思想的磁流变抛光自适应轨迹

贾阳 吉方 张云飞 黄文

王玥, 陈再高, 王建国. 用于三维全电磁粒子模拟的电荷守恒共形发射技术[J]. 强激光与粒子束, 2016, 28: 033020. doi: 10.11884/HPLPB201628.033020
引用本文: 贾阳, 吉方, 张云飞, 等. 基于梯度聚类离散思想的磁流变抛光自适应轨迹[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 121008. doi: 10.11884/HPLPB201527.121008
Wang Yue, Chen Zaigao, Wang Jianguo. Charge conserving emission technique for three-dimensional conformal particle-in-cell simulations[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2016, 28: 033020. doi: 10.11884/HPLPB201628.033020
Citation: Jia Yang, Ji Fang, Zhang Yunfei, et al. Adaptive tool path of magnetorheological polishing based on discrete gradient clustering[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 121008. doi: 10.11884/HPLPB201527.121008

基于梯度聚类离散思想的磁流变抛光自适应轨迹

doi: 10.11884/HPLPB201527.121008
详细信息
    通讯作者:

    贾阳

Adaptive tool path of magnetorheological polishing based on discrete gradient clustering

  • 摘要: 针对磁流变抛光过程中抛光轨迹会引入迭代误差的问题,设计了步长和行距随光学表面梯度自适应变化的光栅线抛光轨迹。首先根据光学元件的表面误差分布,利用标准五点法获得面形各点的梯度值,再基于聚类离散思想将所有面形点根据梯度值大小进行了归类,从而得到轨迹步长和行距随面形误差变化的自适应轨迹。在自研的磁流变加工机床上进行了实验研究,将一块直径50 mm的微晶玻璃,从峰谷值为65 nm、均方根值为12 nm收敛到峰谷值为21 nm、均方根值为2.5 nm,并且在加工后的表面功率谱密度曲线上没有出现明显的尖峰误差。实验结果表明,这种自适应轨迹能有效抑制中高频误差。
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出版历程
  • 收稿日期:  2015-08-12
  • 修回日期:  2015-10-14
  • 刊出日期:  2015-11-26

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