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一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置

朱进鹏 韦寿祺 刘胜

朱进鹏, 韦寿祺, 刘胜. 一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置[J]. 强激光与粒子束, 2017, 29: 074002. doi: 10.11884/HPLPB201729.160483
引用本文: 朱进鹏, 韦寿祺, 刘胜. 一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置[J]. 强激光与粒子束, 2017, 29: 074002. doi: 10.11884/HPLPB201729.160483
Zhu Jinpeng, Wei Shouqi, Liu Sheng. A parameter acquisition device for deflection scanning current correction[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2017, 29: 074002. doi: 10.11884/HPLPB201729.160483
Citation: Zhu Jinpeng, Wei Shouqi, Liu Sheng. A parameter acquisition device for deflection scanning current correction[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2017, 29: 074002. doi: 10.11884/HPLPB201729.160483

一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置

doi: 10.11884/HPLPB201729.160483
详细信息
    通讯作者:

    朱进鹏

A parameter acquisition device for deflection scanning current correction

  • 摘要: 电子束快速成型设备偏扫系统工作频率高,磁偏扫装置的铁损、涡流等损耗导致偏扫轨迹产生偏差。通过获取偏扫区域内特征点基准偏扫参数并由插补算法计算区域内任意一点偏扫参数,能够较好地抑制动态偏差;但由光学观察系统判断电子束斑点位置所获得的基准偏扫参数精确性较低。为提高偏扫轨迹精度,在现有电子束快速成型机上加装一种特征点参数采集装置,收集产生的二次反射电子,通过二次反射电子信号判断特征点通孔中心与电子束斑点中心的对中性。实验表明:当电子束斑点位于特征点中心且聚焦于上表面时,二次反射电子信号最小,此时获得的基准偏扫参数精确性高,能够提高电子束偏扫加工的精度。
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出版历程
  • 收稿日期:  2016-10-02
  • 修回日期:  2017-03-02
  • 刊出日期:  2017-07-15

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