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化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响

王志强 严鸿维 袁晓东 杨科 李源 晏良宏 张丽娟 刘太祥 李合阳

杨实, 任书庆, 来定国, 等. 大功率高压恒流充电源研制[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 095006. doi: 10.11884/HPLPB201527.095006
引用本文: 王志强, 严鸿维, 袁晓东, 等. 化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响[J]. 强激光与粒子束, 2017, 29: 041001. doi: 10.11884/HPLPB201729.160509
Yang Shi, Ren Shuqing, Lai Dingguo, et al. High power high voltage constant current capacitor charging power supply[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27: 095006. doi: 10.11884/HPLPB201527.095006
Citation: Wang Zhiqiang, Yan Hongwei, Yuan Xiaodong, et al. Formation of redeposit in chemical etching process of fused silica and its effect on laser-induced damage[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2017, 29: 041001. doi: 10.11884/HPLPB201729.160509

化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响

doi: 10.11884/HPLPB201729.160509
详细信息
    通讯作者:

    袁晓东

Formation of redeposit in chemical etching process of fused silica and its effect on laser-induced damage

  • 摘要: 化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。
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出版历程
  • 收稿日期:  2016-11-03
  • 修回日期:  2016-12-15
  • 刊出日期:  2017-04-15

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